材料在真空鍍膜機鍍膜之前，需要進行清洗，也就是目前的真空清洗工藝。真空沉積機的真空清洗通常定義為在真空處理前從工件或系統(tǒng)材料表面去除不需要的物質的過程。由于污染物產生的氣體和蒸汽源會使真空系統(tǒng)無法達到所需的真空度，因此對真空元件進行表面清洗處理是必要的。此外，污染物的存在也會影響真空元件連接處的強度和密封性能。

1. 真空加熱清洗

在常壓或真空下加熱工件。促進其表面揮發(fā)性雜質的蒸發(fā)以達到清洗目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中停留的時間長短、加熱溫度、污染物的種類、工件的材質等有關。原理是加熱工件。增強吸附在其表面的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸。解吸增強的程度與溫度有關。為了在超高真空條件下獲得原子級別的清潔表面，加熱溫度必須在450攝氏度以上。加熱清洗法特別有效。但有時，這種治療方法也會有副作用。由于加熱過程，某些碳氫化合物可能聚集成較大的顆粒并分解成碳渣

2. 紫外線照射清洗

利用紫外線輻射分解表面碳氫化合物。例如，暴露在空氣中15小時可以產生一個干凈的玻璃表面。如果將經過適當清洗的表面置于產生臭氧的紫外線源中。一個干凈的表面(過程清洗)可以在幾分鐘內形成。這表明臭氧的存在提高了潔凈度。其清洗機理是在紫外線照射下，污垢分子被刺激解離，臭氧的產生和存在產生高活性的氧原子。被激發(fā)的污垢分子和由污垢解離產生的自由基與氧原子相互作用。形成更簡單、更易揮發(fā)的分子。