- 真空電鍍?cè)O(shè)備膜厚的不均勻問(wèn)題
無(wú)論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來(lái)講是工件架的中間位置。如果真空電鍍?cè)O(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無(wú)法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長(zhǎng)期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對(duì)真空2023-06-16 - 涂層真空鍍膜機(jī)的常見(jiàn)問(wèn)題分析鍍膜真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)。用于滿足各種加工需求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金刀具。其性能更穩(wěn)定，工件質(zhì)量更高，可防止功能面、刀片和拉伸半徑的磨損，顯著延長(zhǎng)工件的使用壽命，提高沖程率和生產(chǎn)率，降低單位成本。那么，使用鍍膜真空鍍膜機(jī)有哪些常見(jiàn)的問(wèn)題呢？下面真空鍍膜機(jī)編輯就為你列舉幾個(gè)內(nèi)容:(1)2023-06-16
- 真空鍍膜機(jī)的正常工作條件是什么真空沉積機(jī)主要是指一種需要在高真空下進(jìn)行的鍍膜設(shè)備，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等類(lèi)型。真空鍍膜機(jī)的正常工作條件是什么？1. 環(huán)境溫度:10~30℃2. 相對(duì)濕度:不超過(guò)70%3.冷卻水入口溫度:不高于25℃4. 冷卻水水質(zhì):城市自來(lái)水或同等水質(zhì)5. 電源電壓:380V、三相50Hz或220V、單相50Hz(根據(jù)所2023-06-07
- 鍍膜前真空鍍膜機(jī)的清洗材料在真空鍍膜機(jī)鍍膜之前，需要進(jìn)行清洗，也就是目前的真空清洗工藝。真空沉積機(jī)的真空清洗通常定義為在真空處理前從工件或系統(tǒng)材料表面去除不需要的物質(zhì)的過(guò)程。由于污染物產(chǎn)生的氣體和蒸汽源會(huì)使真空系統(tǒng)無(wú)法達(dá)到所需的真空度，因此對(duì)真空元件進(jìn)行表面清洗處理是必要的。此外，污染物的存在也會(huì)影響真空元件連接處的強(qiáng)度2023-06-07
- 真空鍍膜機(jī)的種類(lèi)和原理是什么常見(jiàn)的真空鍍膜設(shè)備按其工作原理可分為蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和復(fù)合鍍膜。蒸發(fā)式卷取涂膜設(shè)備按蒸發(fā)過(guò)程可分為連續(xù)式、半連續(xù)式和間歇式三種，因設(shè)備結(jié)構(gòu)的不同也可分為:單室、雙室和多室卷取涂膜設(shè)備。主要用于塑料、布、紙、鋼帶等條狀表面真空蒸發(fā)膜，作為食品金屬包裝材料、反光材料、保溫材料、表面裝飾材料、電氣材料2023-06-07
- 納米涂層可以滲透到硅膠表面的微孔結(jié)構(gòu)硅膠是一種高活性吸附材料，在制作各種密封環(huán)時(shí)，密封環(huán)之間形成靜電效應(yīng)且容易相互吸附，硅膠產(chǎn)品表面非常干燥，特別容易吸附灰塵，造成表面臟。perelin工藝通過(guò)獨(dú)特的CVD方法在硅膠制品表面形成一層薄而透明的perelin膜。perelin涂層具有優(yōu)異的干潤(rùn)滑性和低摩擦系數(shù)，改善了表面干燥狀況，易吸灰，給用戶(hù)帶來(lái)2023-05-20
